中文名称:磷酸三(三甲基硅基)酯
中文别名:三（三甲基硅基）磷
CAS No:10497-05-9
EINECS号：234-028-1
分子式:C9H27O4PSi3
沸点:228-229 °C720 mm Hg(lit.)
闪光点:76 °F
折射率:n20/D 1.409(lit.)
密度:0.945 g/mL at 25 °C(lit.)
用途:1. 性状：无可用 2. 密度（g/mL,25/4℃）： 0.945 3. 相对蒸汽密度（g/mL,空气=1）：无可用 4. 熔点（oC）：3-4 5. 沸点（oC,常压）：228-229 6. 沸点（oC,5.2kPa）： 无可用 7. 折射率： 1.409 8. 闪点（oC）： 无可用 9. 比旋光度（o）：无可用 10. 自燃点或引燃温度（oC）：无可用 11. 蒸..
安全说明:Moderately toxic by ingestion. When heated to decomposition it emits toxic fumes of POx. See also ESTERS.
危险品运输编号：UN 1993 3
物理性质
外观: 无色至浅黄色液体。
沸点: 110°C至120°C（在低压条件下）。
溶解性:
可溶于常见有机溶剂（如甲苯、己烷）。
不溶于水，与水反应生成硼酸和三甲基硅烷醇。
化学性质
硅氧键稳定性
三甲基硅基（TMS）提供良好的挥发性和疏水性。
水解反应
遇水或湿气易分解，生成硼酸（H?BO?）和三甲基硅醇（TMSOH）。
反应活性
具有与烷基卤化物、酰氯等活性物质反应的潜力，用于硼化或硅化反应。
主要用途
有机合成

用作硼源，用于制备硼化合物。
在Suzuki偶联反应中，可作为硼酸酯中间体，提高反应效率。
材料化学

用于制备具有特殊光学或电子性能的材料。
在硅基和硼基材料的修饰中，作为前驱体。
表面修饰

用于修饰表面，提高材料的疏水性或调节表面能量。
合成方法
原料选择

硼酸（H?BO?）或硼酸酐（B?O?）。
三甲基氯硅烷（TMSCl）。
反应路线

在惰性气氛下，硼酸与TMSCl反应生成三（三甲基硅烷）硼酸酯和氯化氢气体：
优化条件

低温下反应（< 50°C），以避免副反应。
需要无水环境，避免水解。